1월초 이재용 삼성전자 부회장이 화성 사업장을 찾아 직원들과 인사를 나누고 있다. 사진=삼성전자 제공 이 부회장이 화성사업장을 찾은 것은 지난달 2일 새해 첫 업무로 사업장을 둘러본지 50여일 만이다.
이 부회장이 방문한 ‘V1 라인’은 삼성전자의 첫 EUV 전용 라인이다. 최근 본격적으로 7나노 이하 반도체 생산에 돌입했으며, 앞으로 차세대 파운드리(반도체 위탁생산) 제품을 주력으로 생산할 계획이다.
이 부회장은 현장 직원들과 만나 “지난해 우리는 이 자리에 시스템반도체 세계 1등의 비전을 심었고, 오늘은 긴 여정의 첫 단추를 꿰었다”며 “이곳에서 만드는 작은 반도체에 인류사회 공헌이라는 꿈이 담길 수 있도록 도전을 멈추지 말자”고 말했다.
EUV는 파장이 짧은 극자외선 광원을 사용해 웨이퍼에 반도체 회로를 새기는 기술이다. 불화아르곤(ArF)을 이용한 기존 기술보다 세밀한 회로 구현이 가능해 고성능·저전력 반도체를 만드는데 필수적이라는 게 회사측 설명이다.
삼성전자는 지난해 ‘반도체 비전 2030’을 발표하고 시스템반도체에 133조원 투자 및 1만5000명 채용 등 생태계 육성 지원방안을 밝힌 바 있다.
1월초 화성사업장을 방문했을 땐 반도체부문 사장단과 함께 3나노 반도체 개발 현장을 찾아 직원들을 격려하며 “과거의 실적이 미래의 성공을 보장해주지 않는다. 역사는 기다리는 것이 아니라 만들어가는 것”이라며 새로운 미래 개척을 강조했다.
김정훈 기자 lennon@
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